99,95 % W Sputtringsmål
Olika typer av sputtrade filmmaterial har använts i stor utsträckning i integrerade halvledarkretsar, inspelningsmedia, platta bildskärmar och verktygs- och formytbeläggningar.
99,95 % Tungsten Titanium Sputtering Target
Sputtering-mål används huvudsakligen inom elektronik- och informationsindustrin, såsom integrerade kretsar, informationslagring, LCD-skärmar, laserminnen, elektronisk styrutrustning, etc.; de kan också användas inom området glasbeläggning; de kan också användas i slitstarka material, korrosionsbeständighet vid hög temperatur, avancerade dekorativa tillbehör och andra industrier.
Det finns många typer av sputtermål, och det finns olika metoder för att klassificera mål:
Beroende på sammansättningen kan den delas in i metallmål, legeringsmål och keramiska sammansatta mål.
99,95 % WTi
Enligt formen är den uppdelad i långa mål, fyrkantiga mål och runda mål.
Enligt applikationsfältet är det uppdelat i mikroelektroniska mål, magnetiska inspelningsmål, optiska skivmål, ädelmetallmål, filmmotståndsmål, ledande filmmål, ytmodifierade mål, maskskiktsmål, dekorativa skiktmål, elektrodmålmaterial och andra målmaterial.
Enligt olika applikationer är de uppdelade i halvledarrelaterade keramiska mål, inspelningsmedium keramiska mål, display keramiska mål, supraledande keramiska mål och jättemagnetoresistans keramiska mål.
